钒是一种银灰色的金属。钒的密度为6 .11g/cm3,熔点1919±2℃,属于高熔点稀有金属之列。纯钒具有良好的可塑性,在常温下可轧成片、箔和拉成丝。
本标准将制定钒及钒合金靶材,规定了靶材材料配比、纯度、密度、内部组织结构、焊接质量、靶材形状与尺寸、表面粗糙度及靶材清洗与包装等要求,主要适用于在集成电路、背板金属化、光电子、传感器等行业中用来作阻挡层的钒及钒合金靶材,来防止金导电层和镍粘结层之间的扩散。
1. 所述钒及钒合金靶材为一体型或者焊接型;
2. 所述的钒靶材的纯度要求是≥99.95%;钒合金靶材为V-1%W、V-5%W、V-9%W,钒合金靶材纯度≥99.7%;
3. 所述的钒合金靶材相对密度≥99%;
4. 所述的钒及钒合金靶材的平均晶粒大小要求为≤100um,或按照需方要求;
5. 所述的钒及钒合金靶材内部不应有分层、夹杂、疏松和气孔等缺陷;
6. 所述的钒及钒合金靶材焊接结合率≥95%,单个缺陷率≤2.5%;
7. 所述的钒及钒合金靶材面粗糙度应符合图纸要求,图纸无要求时Ra值应不大于1.6μm;
8. 所述的钒及钒合金靶材表面应清洁光滑,无指痕、油污和锈蚀,无颗粒附加物和其他沾污,无凹坑、划伤、裂纹、凸起等缺陷。