超高纯钨（5N及以上）常用作国防军工武器和精密电子工业及其它精密技术和材料领域，或用作高性能电极、发热元件或高温部件等。超纯钨由于具有对电子迁移的高电阻、高温稳定性以及能形成稳定的硅化物，在电子工业中往往以溅镀薄膜形式用作栅极、连接和障碍金属。超高纯钨及其复合材料钨硅或钨钛常被制成高纯度的溅镀靶材，以薄膜形式覆盖于基板或其它薄膜层上，用于超大规模集成电路作为电阻层、扩散阻挡层等以及在金属氧化物半导体型晶体管中作为门材料及连接材料等。

随着微电子工业和光电技术的发展，超高纯钨的用途日益增加。据统计，2020年我国5N及以上超高纯钨消耗量为1200吨，预计到2025年其消耗量将增加到1900吨以上。由于超高纯钨一般是通过超高纯氧化钨还原制得，因此可以预见，三氧化钨作为工业生产钨粉的重要中间产物，其纯度、性能直接影响后续制得钨粉性能的好坏。随着高性能钨材料的开发和广泛应用，各工业领域对三氧化钨的纯度或某些杂质含量的要求将会越来越高。

    为促进高纯三氧化钨的发展，规范市场竞争，为国内厂家提供基本的技术规范和依据，有必要对该类产品制定国家标准，该标准的制定将具有显著的社会效益和经济效益。且该标准项目属于《装备制造业标准化和质量提升规划》（国质检标联 [2016]396 号）以及《原材料工业质量提升三年行动方案（2018-2020 年）》（工信部科〔2019〕188 号）提出的工业基础、智能制造、绿 色制造标准项目。

本标准规定了高纯三氧化钨的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及合同（或订货单）内容。

本标准适用于纯度为5N5（99.9995%）的三氧化钨。

主要技术内容:

1、化学成分：规定了产品主含量及杂质元素含量的控制要求；

2、物理性能：规定了产品费氏平均粒度、松装密度、过筛以及外观质量要求；

3、试验方法：规定了产品的化学成分、物理性能、外观质量的检验方法；

4、检验规则：规定了产品的组批要求、取样规则、结果判定等；

5、规定了产品的标志、包装、运输、贮存和质量保证书的要求。

在高纯氧化钨、高纯钨粉的研发制备方面，德国、日本等发达国家处于领先水平，现已成为生产高纯钨金属的大国。日本东芝公司为提高半导体配线用材的质量，要求将钨粉的纯度(质量分数) 从99.9%提高到 99.999%以上，美国生产钨薄膜和溅射靶材，要求钨的纯度更是高达 99.9999%。国内许多钨企业也对原材料氧化钨的杂质含量及物理性能提出了更高的要求，部分生产高端钨产品的企 业更是对个别杂质元素提出了特别严格的要求。目前国内生产的钨粉的化学纯度一般为3N5（99.95%），纯度为4N（99.99%）、能规模化生产5N（99.999%）、5N5（99.9995%）、6N（99.9999%）的国内企业有厦门钨业，崇义章源钨业股份有限公司也具有年产100吨高纯钨粉的能力，但还处于市场投入初期，国内的许多行业如集成电路制造业为满足对高纯金属钨及其合金靶材的需求，仅能依赖进口，价格十分昂贵。如5N高纯钨粉进口价达1000元/Kg，是其普通钨粉售价的3倍以上，5N以上的高纯钨粉价格更为昂贵。所以，为了国内高纯钨材料的发展，摆脱对国外高价高纯钨材料的依赖，提升我国作为钨资源大国的综合技术实力，有必要制定好高纯钨的相关标准。

    经检索，目前跟三氧化钨相关的国家标准有GB/T 3457-2013《氧化钨》、YS/T 901-2013《高纯钨化学分析方法 痕量杂志元素的测定 辉光放电质谱法》。暂无发现跟高纯三氧化钨相关的国家标准。