高纯工业品氢氟酸是微电子技术加工制作过程中不可缺少的关键性化学品之一，主要用于太阳能光伏电池、液晶显示器件、集成电路(IC)和超大规模集成电路(VLSI)芯片的清洗和腐蚀，是上述各行业制作过程中的关键性基础化工材料之一。它的纯度和洁净度对集成电路的成品率、电性能及可靠性都有十分重要的影响。它基于微电子技术发展而发展，同时又制约微电子技术发展。近年来，全球电子化学品市场需求增长速度很快，近两年保持10%以上的增速，因此高纯工业品氢氟酸的未来发展前景十分广阔。2013年实施的行业标准，促进了工业高纯氢氟酸行业的技术改造和结构调整，使我国具备一定生产力和国际市场竞争力，2018年我国高纯工业品氢氟酸产量已达14万吨。国内几家大型生产企业的产品已经出口到美国、德国、日本和台湾等地。

近年来国际市场对工业高纯氢氟酸需求量愈来愈大，对品质的要求也愈来愈高，是我国产品在国际市场扩大占有率的一个关键时期。2013年行业标准无法满足国际高端市场的需求，限制了我国产品向国际高端市场进军的步伐。因此当务之急就是对标准进行修订，本次修订主要修改的内容为：1）根据国际和国内客户要求，增设一个等级UPSSS级，该级别阳离子增设Be、V、Co、Ga，并在UPSS级的基础上提高各阳离子含量指标要求；2）氢氟酸含量测定方法增加自动电位滴定仪法，便于和国际客户检验方法进行接轨；3）对氟硅酸含量、阴离子和阳离子的测定方法进行优化；4）调整颗粒度指标以适应用户需要。2013年标准规定的内容制约了行业的发展，通过本标准的修订，使优质产品的生产有据可依，对先进生产技术的推广、规范产品质量、指导企业生产、满足高端用户的使用具有十分重要的意义。本标准的实施可以进一步促进工业高纯氢氟酸行业良性、健康地发展，推动我国优质产品在国际市场的占有率不断扩大。

本标准规定了工业高纯氢氟酸的技术要求、检验方法、检验规则、标志、标签、包装、运输、贮存。

本标准适用于工业高纯氢氟酸。该产品主要应用于太阳能光伏电池、液晶显示器件、集成电路和超大规模集成电路芯片的清洗、蚀刻，以及作为生产其他高纯氟化物的原料等。

本标准为推荐性。

本标准中规定了工业高纯氢氟酸的技术指标和分析方法，涉及外观、总酸度（以HF计）、氟硅酸（H2SiF6）含量、氯化物（以Cl计）含量、硝酸盐（以NO3计）含量、磷酸盐（以PO4计）、硫酸盐（以SO4计）含量、颗粒；各金属离子含量，包括：铝（Al）、砷（As）、硼（B）、钡（Ba）、钙（Ca）、镉（Cd）、铬（Cr）、铜（Cu）、铁（Fe）、钾（K）、锂（Li）、镁（Mg）、锰（Mn）、钠（Na）、镍（Ni）、铅（Pb）、钛（Ti）、锑（Sb）、锡（Sn）、锌（Zn）、铍（Be）、钒（V）、钴（Co）和（镓）指标。为了满足半导体行业的需要，各项指标要求都很低，除氢氟酸采用常规检测方法外，阴离子则使用离子色谱法，阳离子使用ICP-MS法。

1. 国内外对该技术研究情况简要说明：

该产品属于精细无机化工产品，生产技术成熟，产品质量稳定，应用范围相对专一。国内该产品的生产主要集中在氟化工行业。目前国内主要生产企业包括多氟多化工股份有限公司、浙江凯恒电子材料有限公司、福建省邵武市永飞化工有限公司、鹰鹏集团、巨化集团、上海哈勃化学技术有限公司等。2018年产量达到14万吨。

2. 项目与国际标准或国外先进标准采用程度的考虑：

   目前收集到的国外标准有：SEMI PV 11－1110《太阳能光伏用氢氟酸的技术说明》、SEMI C 28－0611《氢氟酸技术说明》、JIS K 1466－1995《半导体用氢氟酸的试验方法》。SEMI标准指标级别为grade1～grade5，其中的grade5为新增指标，代表目前国际先进水平。我国产品的水平已基本达到国际最高水平，因此本次修标将参考SEMI标准进行修订。

3. 与国内相关标准间的关系：

   现行标准为HG/T 4509—2013，未查阅到其他相关的国内标准。

4. 指出是否发现有知识产权的问题：

本标准不涉及知识产权问题。