1、标准立项的目的和意义

稀土金属在高新技术领域应用广泛，尤其是高纯、超高纯稀土金属，作为研究开发及制备高性能稀土新材料与器件的关键核心基础材料，是获得高性能磁性材料、发光材料、能源材料、电子材料等功能材料的物质保障。如应用于微纳电子集成电路的稀土高K栅介质材料金属镱/铒/镧、重费米子超导的镱和铈、OLED显示的镱等，对稀土金属的纯度及特定杂质含量都提出了极高的要求，无不体现出“金属纯度”与“材料性能”的紧密关联性以及高纯、超高纯稀土金属作为关键核心基础材料在高新技术产业发展中的至关重要性。尤其是近几年电子信息领域，特别是有机发光材料领域的快速发展，对金属镱靶材的质量提出了更高的要求，金属镱靶材的应用量及产业规模也呈现快速上升趋势。

2、必要性

高纯稀土金属靶材制备的关键技术开发，属于2022年度“稀土新材料”重点专项，特种高纯稀土金属及合金靶材规模化制备技术（共性关键技术）。为落实“十四五”推动高质量发展的国家标准体系建设规划要求，建立《高纯金属镱靶材》标准制定与科技创新、产业发展协同机制，随着技术不断进步和相关产业转型升级，对高纯金属镱靶材需求量与日俱增，促进产业链供应链上下游标准有效衔接显的尤为重要。但到目前为止，国内贸易一个统一的产品标准，因此制定高纯金属镱靶材的产品标准很有必要。本标准的制定，可为高纯金属镱靶材产品贸易提供更合理的仲裁依据，规范高纯金属镱靶材贸易，为高纯金属镱靶材产品的指标控制提供新的指导意义，有利于集成电路的稀土高K栅介质材料、OLED显示等生产单位提供最佳生产原材料，促进稀土产业的健康发展。还可促使生产方正确采用原材料，合理调整生产工艺，完善检测手段，为用户生产出更满意的产品来，对国内生产企业及相关行业的技术进步将产生积极的推动作用，并为生产、使用、贸易三方提供更高的技术依据。

1、范围

本标准规定了高纯金属镱靶材的要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、存贮质量证明书。

本文件适用于真空熔炼法生产的高纯金属镱靶材，主要作为有机发光材料（OLED）金属镀层的添加元素和集成电路的稀土高K栅介质材料。

2、主要技术内容

本标准产品分类主要按产品绝对纯度为依据规定分为3个牌号，分别适用于不同性能集成电路用栅介质材料、OLED显示等的使用范围。这种分类是应调研时生产厂家和用户要求划分的。本标准的分类旨在为生产、使用方提出最佳建议，拟达到效率最大化。这种分类有利技术创新以便使用中发现不同牌号产品的其他有益功能。

本标准技术指标按各高纯金属镱靶材生产单位的能力与用户使用要求化繁就简，抓主要关键指标，以追求经济合理性和可操作性。根据市场的要求，化学成分表中除了对Yb纯度和14个稀土杂质元素的指标作了规定，还对非稀土杂质Fe、Si、Ca、Mg、Al、Ni、Ti、Mn、Zn、Pb、Cu、C、Cl、Cr、Hg、Cd、Mo和W关键性杂质做了规定。此外，还对靶材产品的表面光洁度、外观质量、内部质量、几何尺寸及允许偏差、试验方法及检验规则等验收要求都做出了明确要求。

1、国外对该产品的研发相对滞后，处于实验室技术研发阶段，应用端以中国出口为主，主要应用企业为韩国三星、韩国LG、日本显示等面板制造企业。国内的主要生产企业已经由实验室阶段迈进产业化阶段，如包头稀土研究院、有研新材料、厦门钨业、虔东稀土等，各企业均配备有完善的生产、检测和测试装备，产品全行业产能达到100吨，各规格产品总量突破100万件。围绕有机发光行业创新发展的重大需求，各企业持续深入研究有机发光材料核心器件用高纯度稀土金属镱靶材制备技术，形成关键敏感杂质含量满足有机发光材料应用要求的4N超高纯金属镱靶材制备产业化技术。依托先进的制造工艺和完善的生产体系，形成以高纯度稀土金属镱致密铸锭及大尺寸靶材制备的关键技术为基础、洁净加工技术和防氧化处理技术为核心、微观组织控制技术为重点、终端应用为拓展方向的产业结构，实现高纯度金属镱靶材上中下游一体化发展，构筑了行业领先的全产业链优势。推动上游生产企业技术升级，助力下游面板生产企业快速发展，走实、走好高纯度金属镱靶材技术研发—标准制定—市场推广—产业化拓展之路，实现高端稀土制造产业的高质量发展。

2、本标准项目目前没有对应的国际标准或国外先进标准，本标准可填补国际空白。

3、本标准项目不存在专利等知识产权的问题。