蒸发料是用于物理气相沉积(PVD)蒸发镀膜工艺中的关键支持材料。在真空条件下利用电子束或热源加热金属蒸发料，使其从固态转变成气态，形成原子并以直线运动方式运送，最终凝结并沉积在衬底（硅片）上而形成薄膜。高纯金属蒸发料，以其优异独特的电学、磁学、热学和力学性能等广泛应用于电子薄膜材料的制备，尤其是在硅片背面金属化方面，高纯金属蒸发料成为不可或缺的基础材料之一。

半导体（集成电路、分立器件、LED等）、平板显示（液晶、等离子体、有机发光二极管等）以及太阳能光伏（晶体硅电池、薄膜电池等）等一系列战略新兴产业是电子信息领域发展的重点。我国政府高度重视电子制造业新材料产业的发展，在《“十三五”国家战略性新兴产业发展规划》、《中国制造2025》和《新材料产业发展指南》等国家层面的相关规划中都将“高纯金属及合金等新材料”，作为重点领域急需突破的材料。特别是在高端半导体、平板显示、分立器件等布线导电中对于高端镀膜蒸发材料的需求巨大。前期，我国还需要大量进口，目前部分产品已经实现了国产替代。高纯镍铬材料由于具有优良的导电性、传热性等，成为高端电子器件中的核心关键原材料。但迄今为止，中国在电子元器件、集成电路和平面显示等高端领域应用的高纯镍铬蒸发料缺乏系统深入研究，蒸发料产品的质量参差不齐，技术成熟度指标等级缺乏统一标准，严重制约了国内外高纯镍铬蒸发料用户对高纯镍铬蒸发料制造商的产品实力、技术成熟度的评判。

1、规定了镍铬合金蒸发料的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、储存及质量证书与合同（或订货单）内容。

2、本标准适用于用于半导体行业用的镍铬合金蒸发料。主要涉及镍铬蒸发料以下技术内容：

1）化学成分及纯度：本标准主要涉及半导体行业常用的镍铬10与镍铬20两种镍铬合金蒸发材料，分别对其纯度及杂质含量进行了要求。

2）规格及允许偏差：本标准主要涉及半导体行业常用柱状镍铬合金蒸发料与片状镍铬合金蒸发料，对不同尺寸规格及尺寸公差进行了要求。

3）外观质量：本标准根据客户要求，针对镍铬合金蒸发料的外观质量进行了要求。

4）试验方法及检验规则：根据各项技术要求，本标准对试验方法及检验规则进行了要求规范。

5）本标准对产品的标志、包装、运输、贮存及随行文件进行了详细的要求。

6）根据客户及行业需求，本标准对订货单内容进行了要求。

3、项目建议性质为推荐性。

1、国内外产业情况（市场、进出口、需求及未来发展展望等）及申报单位情况

随着我国集成电路产业的快速发展，蒸发镀膜材料的消耗量逐年增加，市场广阔。高纯镍铬合金材料由于具有优良的导电性、传热性等，成为高端电子器件中的核心关键原材料，在集成电路、太阳能电池等方面有广泛的应用。目前国内很多企业及科研院所都有大量的需求，市场年需求量预计30吨，如中电科集团55所、中电科集团13所、武汉敏芯半导体股份有限公司、合肥彩虹蓝光科技有限公司、中芯国际等大型半导体行业厂家都在广泛使用，使用产品主要供应商为国内厂商如有研亿金、江丰电子，在制备技术和制备水平均可满足国内需求。

作为半导体行业重要的蒸镀材料，除了化学成分可以部分参考《GB/T 26016-2010 高纯镍标准》、《GB/T 28908-2012 高纯金属铬》，关键的技术要求诸如镍铬合金的纯度要求、规格尺寸、公差要求、检验标准、验收标准、包装等要求等只能采用技术协议或合同约定，没有统一的规范性。

有研亿金新材料有限公司主要研发、生产、销售微电子光电子用薄膜新材料、贵金属材料及制品等业务，是国内规模宏大、门类齐全、技术能力一流的高纯金属溅射靶材制造企业，拥有30多年专业从事稀有和贵金属材料研发、开发和生产经验，在材料制备基础研究和技术转化开发方面，已经形成了产学研的完整技术链。有研亿金是国内众多知名半导体企业的材料供应商，因此镍铬合金蒸发料标准制定是根据多年产品的生产经验和使用要求，积累一定数据的基础上制定的，充分考虑了标准的先进性、适应性和可操作性。

2、国内外标准情况

目前全世界集成电路制造用靶材、蒸发料的生产企业主要集中在美国、德国及日本，高纯镍铬合金蒸发料的进口比例占据市场用量的70%，并随着我国半导体集成电路行业用高端材料快速发展，我国高纯镍铬合金蒸发料也得到了快速突破，目前国内市场基本全部实现国产自主。美国材料协会标准、日本电子协会标准、欧盟标准中均没有镍铬合金蒸发料的相关标准，因此需要建立我国镍铬合金蒸发料的行业标准，促进现有产品质量的提高，确保产品生产、检验和验收的规范及统一。

3、该标准项目无相关的国家标准和相关行业标准。

4、本标准未发现有知识产权的问题。