本标准适用于以工业粗铟或99.99%精铟为原料,经原料处理及电解精炼、真空蒸馏、直拉等工艺制备的纯度不低于99.999%和99.9999%的高纯铟,产品牌号分别为In-05和In-06,产品供制作化合物半导体、靶材、蒸镀、高纯合金、高级轴承及半导体材料的掺杂剂等。
本次修订主要对高纯铟的适用范围、杂质元素的含量、化学分析方法等内容进行修订。主要内容包括:
1.修改了范围,将原版本中的“本标准适用于以工业粗铟为原料”修改为“本文件适用于以工业粗铟或99.99%精铟为原料”,增加了99.99%精铟的原料,以适应越来越高的产品质量要求,同时利于统一比较口径,有利于产品质量一致性的提高;
2.修改了规范性引用文件中引用的化学分析方法文件,将原版本中的“GB/T 2594 高纯铟分析方法”修改为“YS/T 981(所有部分) 高纯铟化学分析方法”,同时更改高纯铟的化学分析方法,与行业现状相适应;
3.增加了术语和定义;
4.产品分类增加了以外形分类;
5.修改了化学成分的规定,将原版本中6N高纯铟中可能影响晶片迁移率、载流子浓度的Fe、Cu、Sn、Mg、Si、S等杂质的含量加严,增加杂质Al、Zn、As、Ag、Co、Bi等杂质含量的要求,使之更加贴近用户需求,原6N高纯铟杂质含量要求从8个增加为25个;
6.修改了化学成分分析方法(见4.1,2012年版的3.1),将高纯铟的化学分析方法修改为YS/T 981《高纯铟化学分析方法》
7.删除了锭形和锭重;
8.更改取样方法和制样方法,使之与更新的化学分析方法要求相适应,主要涉及取样数量、样品要求等。原标准仲裁取样是从产品上均匀刨取样屑,然后弄碎、缩分进行检验,采用辉光放电质谱法进行测试,对试样尺寸有要求,取样、制样则改为将样品加热熔化并混合均匀,取样后制成截面积2mm2~9mm2、长度为20mm长条状或直径为20mm、厚度不超过 5mm的饼状。